微弧氧化的工藝流程非常簡單，只要進行除油、水洗、微弧氧化再水洗，就可以讓工業(yè)鋁型材表面的陶瓷層具有非常好的耐腐蝕性、耐磨性、柔韌性、耐高溫和強結合力，使膜層表面光亮且厚度可達200-300μm。那么微弧氧化處理受哪些因素的影響呢？

1：合金材料及表面結構

微弧氧化處理對工業(yè)鋁型材的合金成分要求并不高，某些含銅或含硅量較高的鑄鋁合金，采用陽極氧化的方式不能處理，采用微弧氧化的方法都可以處理；對表面結構也不要求很高，一般不需要進行拋光處理，對于粗糙的表面，經微弧氧化后都可達到更加平整光滑的效果。

2：電解質溶液的組成

微弧氧化的電解質溶液一般由金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液組成，有硅酸鹽、磷酸鹽等，要想取得優(yōu)質的陶瓷膜層，必須要控制好電解質溶液的組成。要將電解質溶液的pH值控制在9-13的范圍之內，根據膜層性質，決定是否需要添加有機或無機鹽的添加劑，在電壓不變的情況下，溶液的濃度越大，成膜的速度越快，溫度上升越慢，溶液的濃度越低，成膜速度越慢，溫度反而會快速上升，所以電解質溶液決定成膜的質量。

3：電壓與電流密度

不同的工業(yè)鋁型材基體和不同的電解液，在微弧氧化放電時形成的擊穿電壓不同，擊穿電壓是指剛發(fā)生在表面的微弧放電電壓，而微弧氧化電壓通常要比擊穿電壓高出上百伏，通常在200-600v的范圍之內，不同的電壓產生的氧化膜厚度和其它性能都不同，所以微弧氧化電壓對于成膜很重要。在微弧氧化的電壓剛達到控制值時，電流密度是最大的，隨著氧化的進行，陶瓷膜層的加厚，電流密度越來小，電壓和電流的密度對于膜層的厚度有很大的影響，所以通過控制電壓和電流密度的方法來進行微弧氧化，對于陶瓷膜的質量至關重要。

4：電解液溫度：微弧氧化的電解液溫度一般控制在20-60℃的范圍之內，而它的允許值范圍更大，可在10-90℃之間，溫度越高，成膜的速度越快，同時電解液的揮發(fā)越快，表面粗糙度也越高，微弧氧化是一個放熱過程，需要配備制冷設備，在工業(yè)鋁型材的表面會逸出大量氣體，還要安裝空氣壓縮裝置對槽液進行充分攪拌，使氧化溫度均一。

5：氧化時間：微弧氧化的時間通常控制在10-60min的范圍之內，氧化時間越長，所形成的陶瓷膜的致密性越好，不過它的表面粗糙度也越高。

6：陰極材料：微弧氧化的陰極材料一般由不溶性金屬材料組成，而電解液一般為堿性溶液，可用碳鋼、不銹鋼或鎳等這些材料作為陰極材料來進行微弧氧化處理。